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关于孔的双层测量

2012-03-25 23:05 68 0 3

平日我们工作中测量孔时候，为了保证孔在法向上，通常打上下两层，而这个层的创建是这样子的，第一层就是自动方法创建圆，第二层就是复制第一层之后吧侧头打孔深度在下降5斯，可是目前发现一个问题，当把数模隐藏，只留id时，发现同一孔明明测了两层，可只在理论值的位置显示出一个圈，后来我试了试，只有改料厚数值才能使之变成两个圈，那请问高手，这两种方法测圆，有什么不同，哪个更好？

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平日我们工作中测量孔时候，为了保证孔在法向上，通常打上下两层，而这个层的创建是这样子的，第一层就是自动方法创建圆，第二层就是复制第一层之后吧侧头打孔深度在下降5斯，可是目前发现一个问题，当把数模隐藏，只留id时，发现同一孔明明测了两层，可只在理论值的位置显示出一个圈，后来我试了试，只有改料厚数值才能使之变成两个圈，那请问高手，这两种方法测圆，有什么不同，哪个更好？

2012-03-25 23:05

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